光刻机和航发哪个更难搞？中国光刻机曾走在前沿，如今只是卡壳了(3)

不错，你没有听错，在1966年，中国就已经成功研制了名为“65型接触式光刻机”的第一台光刻机，在研制成功之后，立马开始进行了生产，而且当时的厂商—上海无线电专用设备厂还接到另外一个任务，那就是向全中国进行推广。这说明，当时的中国不仅研制出来了，而且还有更加长远，更加全面地打算。
众所周知，光刻机只不过是半导体产业链上的其中一环，当时中国还有很多半导体产业，比如说就在光刻机研制成功的那一年，中国就研制出了35nm圆片。所以，如果大家在光刻机方面都没有任何阻拦的话，那不是有更多的时间精益求精了嘛，自然芯片质量也会更加好。
可当时中国面临的外部环境并不比现在好，那一句“一代人吃了五代人的苦”也不是空穴来风。在中国发展半导体产业的前后两年，三八线上正在爆发朝鲜战争，美国还在叫嚣要过圣诞节，欧洲还在薅德国的羊毛，那张改变日本索尼创始人盛田昭夫命运的出差机票也还没有到来。

可即便如此，中国在当时不仅扛过了美国的叫嚣，还增强了工业体系，同时还在科技领域占得一席之地。之后还研制出了电子束曝光机、以及超纯水处理系统和半自动接近式光刻机等多项先进设备。而且当时的全球背景正是日本半导体产业蓬勃发展的年代，也就是让美国都开始忌惮的日本半导体产业时代。
可以说，当时的中国已经是非常优秀了，那么，既然当时那么厉害，现在的中国光刻机为什么会沦落至此呢？答案只有一个，为了发展。中国发展起步最晚，缺技术，缺时间，缺人才，所以我们只能用市场换技术，用空间换时间，而也正因此，引进外资企业的计划让中国光刻机产业成为了绝唱。