新材料专题报告之湿电子化学品行业深度研究(14)

（1）清洗
面板制造过程中，会经过多次玻璃基板、镀膜玻璃清洗工序，需要湿电子化学 品的参与。如所使用的玻璃基板在受入前使用湿电子化学品对其清洗干净；在溅镀 ITO 导电膜之前的清洗加工；在涂敷光刻胶等之前都要采用湿电子化学品对玻璃基 板进行清洗，以保证对微小颗粒以及所有的无机、有机污染物清除干净，达到所需 要的洁净精度的要求。清洗工序贯穿于 Array 的整个制程过程，对平板显示的成品率 有十分重要的影响。
（2）显影
光刻胶显影，即通过显影液将经过曝光部分的光刻胶溶解，从而将图形从光罩 转移到光刻胶涂层上。常用的显影液有四甲基氢氧化铵（TMAH）、氢氧化钾（KOH） 等，最常用的是 TMAH，它的纯度高，金属离子含量低，显影清洗后基本不留金属 痕迹，显影效果也非 KOH 所能比。杭州格林达是国内显示面板显影液的主要生产供 应厂商，其电子级四甲基氢氧化铵（TMAH）产品在全球市场约占 25%的份额。
（3）蚀刻
蚀刻工艺分为两种，干法蚀刻和湿法蚀刻，面板制作多采用湿法蚀刻。湿法蚀 刻指的是利用湿电子化学品通过化学反应进行蚀刻的方法。主要包括 Mo/Al 蚀刻液 （又称铝蚀刻液）、Cu 蚀刻液、ITO 蚀刻液三种。Mo/Al 蚀刻液用于 Array 工艺中钼 /铝金属层的蚀刻，主要组分是磷酸、硝酸、醋酸及添加剂（硝酸钾、氯化钾）。Cu 蚀刻液是由双氧水加添加剂构成的，用在铜电极存在的面板对铜金属层的蚀刻工序 中，这是一种较新的制造工艺，京东方、中电熊猫、华星光电已有使用铜电极的高 世代线投产，使用的也是铜蚀刻液。ITO 蚀刻液用于面板导电膜氧化铟锡（ITO）的 蚀刻，目前，市场上的 ITO 蚀刻液主要为草酸系和无机酸锡，无机酸系一般是硝酸 （或醋酸）、硫酸、添加剂和水的混合溶液。
（4）剥离
TFT-LCD 制作用的剥离液，是用于去除金属电镀或蚀刻加工完成后的光刻胶和 残留物质，同时防止对下面的衬底层造成损坏，剥离液的配方还必须符合剥离工艺。