新材料专题报告之湿电子化学品行业深度研究(13)

2.2、 平板显示：大陆面板产业崛起带动湿电子化学品需求增长
2.2.1、 湿电子化学品用于面板制造的显影、蚀刻、清洗等工序
薄膜晶体管是LCD和AMOLED中的重要部件。面板显示行业中两大主流技术， TFT-LCD 和 AMOLED，其制造过程均可分为三大阶段：前段阵列工序（Array）、中 段成盒工序（Cell）以及后段模块组装工序（Module）， 薄膜晶体管（TFT）在两大 显示技术中均发挥了重要的作用。TFT 在 LCD 中充当电路开关的作用，用来控制液 晶显示；AMOLED 全称主动矩阵有机发光二极体，TFT 就是这个“主动矩阵”，即 用晶体管控制的开关矩阵。一片表面平滑、没有任何杂质的玻璃基板，制成可用的 薄膜电晶体，需要重复清洗、镀膜、上光阻、曝光、显影、蚀刻、去光阻等过程， 即 Array 制程。相较于传统非晶硅（a-Si）TFT-LCD 的 Array 制程，OLED 采用低温 多晶硅（LTPS） TFT 作为基板，因此其具体工序及所用湿电子化学品种类有所差异。

湿电子化学品主要应用于显示面板制造中Array制程的显影、光刻（蚀刻-剥离） 、 清洗工序。显示面板的前段 Array 制程与晶圆加工相似，不同的是 Array 将薄膜晶体 管制作于玻璃上，而非硅晶圆上。光刻技术是 Array 制程中最为核心的内容，通过带 有目标图形的掩模版对涂有光刻胶的 ITO 玻璃进行曝光，受光部分可经显影液溶解，再将露出的ITO膜层去除并剥离多余的光刻胶，便能得到带有目标图形的ITO玻璃。 湿电子化学品是面板制造中关键的基础材料，基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶 的显影和去除、电极的蚀刻等工序都需要特定的湿电子化学品的参与。