如何打通国学的任督二脉从而使之焕发活力服务于当前社会？(23)

这就得从本世纪初说起，当时为了把芯片制程从130纳米推进到65纳米，出现了严重的技术路线之争。绝大多数厂商认为，这需要将光刻机的光源波长从193纳米缩短到157纳米，于是大家投入了巨资研发，但这玩意儿不是那么好搞的，因为这个波长的光线容易被氧气吸收，导致光刻效果不理想，也就是不良率高，所以进展十分缓慢。而此时TSMC有人却独辟蹊径，研发副总林本坚博士指出：水的折射率大于1，所以只要把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，也就是浸在水里光刻，就可以把193纳米的波长缩到比157纳米还要短，直接到了132！这个方法，就叫做浸润式光刻。他的这个思路看似简单，就是把一个普通原理运用了逻辑推理，其实却说明了他之前受到的学术训练是多么严苛，守正出奇效果却不同凡响。

但是大败美国半导体行业标杆正风头无两的尼康和佳能等巨头都不愿意中途换跑道，前期投入太大，已经形成路径依赖，有些事情就是这样，不是太懒而是半路下不了车。此时，只有一家飞利浦旗下的合资小厂愿意尝试林本坚的方法，就是来自荷兰叫做先进半导体材料光刻公司又简称ASML的这么一家小厂。2004年，TSMC和ASML联合开发出了第一台浸润式光刻机，这对尼康佳能形成了了降维打击，只几年便成了边缘厂商。TMSC也因这一把梭哈拿下了2004年全球一半的芯片代工订单，一跃成为了世界第一大代工厂，连带被英特尔挤压的AMD也沾了大光。而且在入股ASML后，林博士带领的团队所研发的深紫外光微影技术，更是打破技术壁垒，彻底甩开了日本半导体巨头一条街。