光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！

前段时间我们推送了光刻机详解第一篇：恐怖的光源系统，详细介绍了EUV光源系统的组成及发展，今天继续光路调整及OPC软件介绍。
01
光学邻近效应
（Optical Proximity Effect, OPE）
1.1、OPE的定义
随着芯片尺寸不断缩小，达到0.13um及其以下工艺节点，使用的光刻波长（193nm）已经远大于CD，这使得衍射、干涉等所谓的光学临近效应形成致命问题。
光学邻近效应（OpticalProximity Effect, OPE）是指由于部分相干成像过程中的非线性空间滤波，像强度频谱的能量分布和位相分布相对理想像频谱有一定畸变，并最终大大降低了成像质量。

光学邻近效应
图案边角畸变的原因：理想的像强度频谱分布取决于掩模上的线条的特征尺寸、形状和分布规律，其中边角或细锐的线条为频谱提供较多的高频成份，但由于衍射受限，这些高频成分不能够经过系统到达实际空间像面对应的边角处，这必将导致空间像在边角处的光强分布失配，造成实际空间像线条边角处的圆化或畸变。
例如，空间像线尾缩短的原因：在亚微米光刻中，线条的高频成份较多，而线条的尾部的高频成份相对来说就更多了一些。因此，成像系统的非线性滤波必将滤掉到达像面线尾部的大部分能量，仅一部分零频光能参与线尾的成像，线条尾部空间像的边缘衬度将大大下降，这是造成线尾缩短的一个重要原因。