光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！(4)

对mask做图案校正&修改
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光学邻近效应的校正方法
光学邻近效应的校正是通过对Mask的修正，最大可能的解决这些Photo后的图形Variation，各大厂商使用计算机辅助软件工具进行。
与OPC一起使用的方法还有移相掩膜（PSM）、离轴曝光技术（Off Axis Illumination）、亚分辨率辅助图形技术（SRAF）等。基本方法就是直接修改Design house出来的图形，然后再交给掩膜版厂商制作掩膜版。
例如，将line end上修改成hammer head之类的图形，诸如此类。这个修正的迭代过程就叫OPC技术。

2.1、基于经验的光学邻近效应修正法
基于经验的光学临近效应修正（Rule-based OPC）的关键是修正规则。此规则规定了如何对各种曝光图形进行修正。它的形式和内容会极大地影响OPC数据处理效率和修正精度。