光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！(5)

这项技术主要依赖的是以往芯片制造过程中，工程师修改的经验法则，并将之建立成资料库。
在之后的应用方法是以查表法的形式将对应的数据模组块一一替换，其中对应的方法主要依照线与线之间的间隙与线本身的线宽，来与周围各个线段的相互比对，进而由查表法的方式得知可以对应替换的是哪个应该加粗或者减细的线段，来达到校正掩膜版的目的。
由于基于经验的光学临近效应修正法是采用已建好备用替换线段模组的方式，因此优点是速度快，缺点是掩膜版修改后的准确度比较低。

经验法则光学邻近效应修正
对于一维图形，修正规则就是增加或削减设计的线宽；二维图形的修正规则相对复杂，例如如何修正图形拐角和如何修正线条端点。
修正规则也可以用计算的办法来产生，截取设计中最关键的部分，输入到一个专用软件中，对软件计算出的修正进行分析就可以写出较好的修正规则。
不管修正规则是如何产生的，他们都必须经过试验验证。而且，修正规则都是在一定的光刻工艺条件下产生的。如果工艺参数变化了，这些修正规则必须要重新修订。

基于经验的光学临近效应修正法被广泛应用于250和180nm技术节点，到了130nm节点，规则的确定已经非常困难，精度差强人意。目前通行的做法是把一些简单的修正规则写到设计手册中去，这样设计出的图形已经包含了一部分OPC，既节省了软件的运行时间，也提高了修正的可靠性。