光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！(10)

3.3、明导by西门子（Mentor by Siemens）

立于1981年的明导是一家从事电子设计自动化的跨国公司。创立于1981年，总部位于美国俄勒冈州的威尔森维尔，在全球范围大约有4400名雇员，在国内OPC市场上占据主导地位。
西门子（Siemens）与EDA供应商明导国际（Mentor Graphics）在2017年3完成合并，目标指向数字工厂策略。在合并Mentor之后，Siemens在数字工厂市场的占有率，从2017财务年度第一季时的4%，在2018财务年度的第二季增加到20% 。
Mentor的制造工具套件名字叫：CALIBRE系列，提供分辨率增强（RET）所需的数据处理的无缝集成，例如相移掩模（PSM），散射条（SB）和光学邻近校正（OPC），以及掩模规则检查，掩模写入器过程修正和数据格式转换都在一次批量运行中完成。
明导的解决方案基于通用的分层数据库和几何处理引擎，提供诸如图层派生，镜像，缩放，旋转，平面化填充以及全局和选择性大小调整等功能。
Calibration of OPC Models by Mentor
3.4、新思科技（Synopsys）

1987年成立的Synopsys，正如公司的英文组合（Synthesis optimization systems）一样，在逻辑综合市场几乎没有竞争对手。新思总部设在美国加利福尼亚州，超过60家分公司分布在北美、欧洲、亚洲。新思科技1995年进入中国市场，建立了上海、北京两个研发中心，整合了200多位研发人员，近5年销售额平均增长率超过50%。