光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！(8)

曝光辅助图形（2）
SRAF和光刻工艺条件密不可分。如果工艺参数改变了，这些规则就要重新产生并验证。
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OPC软件的发展与相关信息
3.1、OPC软件市场状态
OPC软件作为电子设计自动化（EDA）软件的一个分支类型，市场基本被国外EDA公司占有，国内厂商很难突破。
一般国内大小芯片厂商采购不同供应商的光刻机设备，而配套使用的OPC软件的选择范围更小，主要由ASML旗下的Brion、被西门子收购的明导（Mentor）以及新思科技（Synopsys）这三家国外企业提供。
目前国内OPC市场被外国企业垄断，国内用户完全没有议价能力。根据各种办法测算得出，国内在光学修正软件上每年所支付的授权费约为3亿美元，并会随着产能的进一步扩大呈现快速增长的趋势。
OPC软件与光刻设备没有绑定，光刻机的能力越强，对OPC的要求就相对较低，但考虑光刻设备昂贵的成本因素，一般都会使用OPC软件，可以挤压光刻机的性能，拉近半代工艺的差距。
OPC软件从0.18微米开始已经需要使用，随着技术节点的推进所需要的软件版本越高，使用的模型不一样，软件的价格也越来也贵。一般来说，能达到45纳米修正要求的OPC软件已经处于国际先进水平。
每个芯片厂商都会因一些历史原因而对OPC软件有倾向性的选择，除了要求性能更好、更多的是希望成本更低，否则更换供应商的愿望会比较低，而且更换的过程中需要投入很多技术人员进行验证，这是一个漫长的过程。
比如，中芯国际就是使用明导与新思的OPC软件。流片费用包括光罩和OPC费用，其中OPC费用占大部分。28nm流片费为70-80万美金每次，14nm每次则需要200万美金。
此外一般来说，OPC软件的授权费用根据每年代工厂TapeOut的数量、研发的需求来确定，生产量越高OPC的采购量也越高，签约周期为3年，时间越长价格越低。