光刻机详解二：光学邻近校正，毫厘之间的卡脖子技术！(9)

模型精度方面，涉及到光学、物理和化学等领域的专业计算，是一个负责的系统工程，是OPC软件的技术难点，一般是大学科研机构研究出来后卖给大公司，加入到软件的引擎中，根据实际数据再做优化。
光学模型不涉及知识产权，关键是其中的参数，使用较少的参数并且达到更优的效果和更快的速度是软件性能的体现。
采购方面，Foundry会对服务器成本、软件价格、脚本语言难易程度以及售后服务等因素进行综合考虑，根据自身情况不同而定，但都会有内部会有严格筛选的标准，比如考虑技术实现是否有优势，商业上的售后服务，快速解决问题的能力等。
对于光学修正软件的采购和更换，厂家主要根据技术节点和工艺进行考虑，可分为两个产品线，一个是成熟工艺的替换，另一个是先进制程的研发。
前者来说，参数提取比较容易，作为一个降低成本的方案来替换已有的软件，但由于是在生产过程中导入，OPC软件供应商需要降低售价，降价部分作为更换OPC软件的风险费用。
后者而言，参数提取比较难，评估项目多，周期较长，通过之后是逐步导入而非一次性更换，一般导入期为一年以上，但因为是在研发的过程中已经介入，日后的采购会变得顺理成章。
3.2、Brion by ASML

Brion是一家由华人创办的光学检测公司，不仅成功地利用“计算光刻”解决了深亚微米和纳米级半导体制造中所面临的各种难题，包括高精度建模、器件设计的检查与修正等，通过与光刻机巨头ASML的技术衔接与创新，极大地扩展了光刻制造的容许度及对应的市场，与ASML一起携手实现半导体制造技术的跨越式发展。2017年，在收购Brion后，ASML的光刻机如虎添翼。
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Director of Engineering Xiaolong Zhang at Brion